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氮化爐
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氮化爐廠家離子氮化的原理講解

2020-12-12 14:06:33

氮化爐廠家離子氮化的原理講解

離子滲氮作為強化金屬表面的一種利用輝光放電現(xiàn)象,將含氮氣體電離后產(chǎn)生的氮離子轟擊零件表面加熱并進行氮化,獲得表面滲氮層的離子化學(xué)熱處理工藝,廣泛適用于鑄鐵、碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等。零件經(jīng)離子滲氮處理后,可顯著提高材料表面的硬度,使其具有高的耐磨性、疲勞強度,抗蝕能力及抗燒傷性等。

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離子滲氮又稱輝光滲氮,是利用輝光放電原理進行的。輝光放電是當氣體越過電暈放電區(qū)后,若減小外電路電阻,或提高全電路電壓,繼續(xù)增加放電功率,放電電流將不斷上升。同時輝光逐漸擴展到兩電之間的整個放電空間,發(fā)光也越來越明亮。當電子能f提高,也就是增強電場的操作參數(shù),則能使電暈放電過渡到輝光放電。

離子滲氮向工件表面滲入的氮原子,不是像一般氣體那樣由氨氣分解而產(chǎn)生的,而是被電場加速的粒子碰撞含氮氣體分子和原子而形成的離子在工件表面吸附、富集而形成的活性很高的氮原子。

離子滲氮時,工件放在爐內(nèi)的陰盤上,接上電源抽真空,當爐內(nèi)壓力降到6Pa左右時,充入氨氣,使爐內(nèi)壓保持在1.3×102—1.3×103Pa范圍內(nèi)。由于爐內(nèi)壓力低,隨后又經(jīng)過加熱作用,進入爐內(nèi)的氨氣將發(fā)生分解:2NH3=N2+3H2爐內(nèi)反應(yīng)所得到的氣體的體積分數(shù)為25/100N2和75/100H2的低壓環(huán)境。


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