多用爐內對材料真空熱處理的保護作用
對于很多材料在非真空爐內加熱除了要生成氧化物、氫化物、氮化物外,非真空電爐中加熱的材料還會吸收氣體并向內部擴散,使材料的性能嚴重惡化。這些氧化、還原、脫碳、增碳、吸氣甚至產(chǎn)生腐蝕等弊病,有時在可控氣氛爐或者鹽浴爐中也難以避免,而真空熱處理爐可以在很多時候避免這些弊病。
真空熱處理實質上是在稀薄的真空爐氣氛中進行熱處理,真空電爐內氣體分析表明,真空爐內殘存的氣體是H2Q、O2、CO2以及油脂等有機物蒸汽。真空爐內由于這些氣體的含量非常少,其分壓力很低,不足以使被處理的材料產(chǎn)生氧化、還原、脫碳、增碳等反應,所以材料表面的化學成分和原來的表面光亮度可保持不變。
真空爐內高真空有兩個特點:
1、高真空氣氛的化學活性低,因此,利用真空電爐進行熱處理爐時,氣相與固相界面上發(fā)生的反應,如氧化、還原、脫碳、增碳等,不會進行到有影響的程度;
2、多用爐內的高真空氣氛使氣體體積大的變化非常迅速,可使材料放出溶解的氣體或者氧化物發(fā)生分解。正是由于真空爐內高真空氣氛的這兩個特點,在真空電爐高真空氣氛中,氧分壓很低,氧化作用被抑。因此,為了達到無氧化的目的,需要真空爐內氧的分壓力低于氧化物的分解壓力。